アドバンスドエナジーがSEMICON WEST 2020で3種のプロセス用電源の新製品を発表
- Written by Media Outreach
AEが革新的なプラズマプロセス制御用電源システムを発表し、同社がリードするソリッドステートマッチング、統合型RFジェネレータ、マッチングソリューションの能力を拡大します
東京，日本 - Media OutReach - 2020年8月3日 -アドバンスドエナジー (Nasdaq: AEIS) -- 高度なエンジニアリングの高精度変換、計測、制御ソリューションのグローバルリーダーである同社が本日、先端テクノロジーの半導体ウエハー処理用の新しい3つのソリューションを発表しました。
「成長中の半導体製造産業は、第4 次産業革命の台頭に伴い急速に変革中です。AEはより微細化の形状、高い動作速度、繊細なコントロール、COO(Cost of Ownership)の低減を可能にする電力ソリューションの最先端にあり、データエコノミーを促進する素子を製造する当社の顧客に信頼されています」とアドバンスドエナジーの半導体担当バイスプレジデント兼ゼネラルマネージャーのPeter Gillespieは述べています。「従来はほとんど隠れた存在だったプロセス制御用電源が、今ではウエハー処理の重要なイネブラーとしてますます認識されています。今回は、当社の'power the process'（プロセスへの給電）製品を皆様と共有できる機会であると共に、AEのアーティセン・エンベデッドパワーの'powers the platform'（プラットフォームへの給電）製品のポートフォリオ.を初めて展示いたします」
AEがプラズマ処理の給電を変える重要なシステムソリューションを発表：
eVoS™ LE: AEが発表するeVoSプラットフォームは、まったく新しい非シヌソイダルなプラズマ用電源技術で、最先端の5nm以下の形状の高度なエッチングと成膜にますます必要となる、非常にタイトなイオンエネルギー制御を可能にするものです。プラズマ用の従来の複雑なマルチ周波数システムのシヌソイダルRFバイアス 電源に代わるeVoSは、カスタマイズされた狭いイオンエネルギー分布を単一ソリューションで可能にするよう設計されています。AEのソリューションは、従来のソリューションよりもイオンエネルギー分布のより直接的なコントロール、より高いバイアス電力効率、低い電力損失を可能にしますが、これはますます高度になる3次元集積化(3D IC)に必須なものです。 eVoS LE（低エネルギー）は、原子層エッチング(ALE)、エッチング、洗浄、成膜、原子層堆積(ALD)等の重要なプラズマベースのアプリケーションで高精度な電源制御を実現します。
Navigator® II FCi: 業界をリードするNavigator IIインピーダンス整合ネットワークプラットフォームの成功を基に、AEが発表するNavigator II FCiは新しいより速いソリッドステートのマッチングネットワークで、標準の整合ネットワーク製品に比べて、値、速度、チューニング範囲が向上しています。高速PINダイオード技術に基づくNavigator II FCiは、AEの市場初のNavigator II FastCap™ ソリッドステートマッチングを補完するもので、電力とインピーダンス範囲が拡がり、マッチング時間がミリ秒未満まで向上しています。可動部のないNavigator II FCiは、従来型の真空コンデンサ整合器よりも信頼性と再現性の面でも勝っています。このNavigator II FCiには、市場の要求に合わせて常に範囲が拡大されていくアプリケーションをサポートする拡張性を備えており、 高度なALEアプリケーション実現を可能にします。Navigator II FCi の高速PINダイオード技術は、現在新しいインテグレーテッドマッチング、RFジェネレータ給電システム、Paramount HFiにも使用されています。
Paramount® HFi: 高パフォーマンス、低コスト、統合型RFシステムの 利点が、Paramount HFiの小型フットプリントに一体化され、現在最先端の成膜装置の最も厳しい要件にも適合しています。AEは2000年に、自社のApex製品で業界初の商用化完全統合型ジェネレータと 整合システムを開発しています。現在も成膜プロセス用RF電源の主力製品であるApexは、離散型の4つの変調ポジション切り換えの機能を備えています。実質的にこのコンセプトを拡張した新しい Paramount HFiは 32 の変調ポジションを備え、アップグレードされた完全デジタル制御システムで、新しい VI （RF測定)センサを搭載しています。これらの新性能と運転範囲を広げたParamount HFiは、先進的なプロセス制御、高い繰返し精度、クラスタシステムで構成された複数装置を同期させるコモンエキサイタモード、高度な通信プロトコル(EtherCAT)を備えています。Paramount HFiのコンパクトサイズ、ミリ秒未満のマッチング時間、高信頼性は、現在の短縮された成膜プロセスステップ、高度なNANDのプロセス、及びその他の繰返し精度の高い積層素子のプロセス の重要なイネブラーとして理想的です。
詳細な技術仕様は次をご覧下さい： www.advancedenergy.com。
